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A/B位离子掺杂BiFeO3纳米薄膜的微结构与铁电性能
作者:韩亚洁1 2  进1 2 王建荣2 林秀娟1 杨长红1 黄世峰1 
单位:1. 济南大学 山东省建筑材料制备与测试技术重点实验室  
关键词:薄膜 铁酸铋 离子掺杂 微结构 铁电性 
分类号:
出版年,卷(期):页码:2021,49(3):511-518
DOI:
摘要:
采用化学溶液法结合层层旋涂退火工艺,在掺氟氧化锡导电玻璃基片上制备了BiFe0.95Mn0.05O3和Bi0.9Nd0.1FeO3纳米晶铁电薄膜,并分析比较了其微结构和铁电性能。结果表明:2组分样品均为单相多晶钙钛矿结构,晶粒细小均匀,表面平整,结构致密。两薄膜均获得了饱和电滞回线,且BiFe0.95Mn0.05O3薄膜具有向上的择优取向极化和更优异的铁电性能,其剩余极化强度(Pr)达60 ?C·cm–2,在1~50 kHz频率范围与25~200 ℃温度区间内铁电极化响应稳定,保持时间长达1?103 s工作与反复极化翻转高达1?109次表现出优异的电荷保持力和抗疲劳稳定性。
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