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不同电解液中镁合金微弧氧化膜生长过程及腐蚀防护性能
作者:刘思勤1 2 齐玉明1 2 彭振军1 梁军1 2 
单位:1. 中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室 兰州 730000  2. 材料与光电研究中心 中国科学院大学 北京 100049 
关键词:镁合金 微弧氧化 电解液体系 生长特点 腐蚀防护性能 
分类号:
出版年,卷(期):页码:2021,49(6):1213-1221
DOI:
摘要:

 AZ31镁合金在3种电解液(NaAlO2Na2SiO3Na3PO4)中进行微弧氧化处理,采用扫描电子显微镜和X射线能谱仪分析了不同电解液体系下微弧氧化膜的表面和截面形貌及其元素分布情况,采用X射线衍射分析了微弧氧化膜生长过程中物相组成的变化情况,利用电动位极化、电化学阻抗和析氢测试比较了不同电解液体系中制备的相同厚度(~15 mm)氧化膜的腐蚀防护性能,并根据不同电解液体系中微弧氧化膜生长过程特点,探讨了氧化膜腐蚀防护性能差异的原因。结果表明:在铝酸盐中生长主要以阴离子化合物沉积为主,氧化膜倾向于向外生长,而在硅酸盐和磷酸盐中,这2种膜层的生长很大一部分来自于基体的氧化,导致其向内生长都占据了主要地位,不同的生长方式导致膜层对基体的腐蚀防护性能不同(AZ31-S> AZ31-P>>AZ31-Al)

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